1、電子半導體廢水的種類

由于半導體公司的產品不同，各公司生產過程中產生的廢水種類都不一樣，各公司對產生的廢水來源不一樣所進行的分類也不一樣。總的來水，半導體行業的廢水可以分為含氟廢水、含磷廢水、有機廢水、研磨廢水、氨氮廢水和酸堿廢水。如無錫華潤上華沒有含磷廢水，上海天馬沒有研磨廢水。

2、電子半導體廢水的來源

含氟廢水主要來源于來自于自芯片制造過程中的擴散工序及化學機械研磨工序，在對硅片及相關器皿的清洗過程中也多次用到氫氟酸。對粘膜、上呼吸道、眼睛、皮膚組織有極強的破壞作用。污染物主要為氟離子。含磷廢水主要來源于生產工程中的鋁刻蝕液。有機廢水，由于生產工藝的不同，有機溶劑的使用量對于半導體行業而言具有很大的差距。但是作為清洗劑，有機溶劑仍然普遍使用在制造封裝的各個環節上。部分溶劑則成為有機廢水排放。有機廢水主要來源于IPA溶劑、顯影液、TO刻蝕液、酸洗塔酸堿廢水、酸洗塔有機廢水。